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pvd真空电镀的功能原理—深圳森泰镀膜

  pvd真空电镀的原理主要是物理气相沉积,其是当前国际上广泛应用的先进的☆△◆▲■表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下,利用气体放电使气体□◁或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。

  pvd真空电镀具有沉积速度快和表面清洁的特点,特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。森泰镀膜采用全球先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备,及在此基础之上与国际专家的工艺创新。凭借在装饰镀行▲★-●业十多年的宝贵经验,为客户提供适合的涂层加工方案。

  pvd△▪▲□△真空电镀抗氧化,抗腐蚀,耐腐蚀,化学性▼◆◁•▲能稳▽•●◆定,抗酸。手机外壳PVD●•□▼◁▼镀膜抵抗力,镀膜外壳容易清除油漆和指纹。在强烈的△▪▲□△阳▪•★光,咸的湿地和城市环境下,都不失去光泽,不氧化,不褪色,不脱落。高度耐◆■磨损,耐刮擦,不易划◇=△▲伤。可镀材料广▪▲□◁泛,与基体结合力强。返回搜狐,查看更多

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